蒸發鍍膜是在真空條件下通過電阻或電子束加熱鍍膜材料，使其原子或分子從表面蒸出，沉積到基片表面從而形成薄膜的技術，該技術具有使用范圍廣、薄膜厚度高度可控、技術成熟、成本低廉等特點。目前，真空蒸鍍技術已經廣泛應用于OLED、有機光伏、光學膜、新型半導體、裝飾鍍膜等領域，為一種不可缺少的鍍膜技術。