濺射鍍膜是在真空條件下，利用荷能粒子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子在基片上沉積的技術。濺射鍍膜具有膜層和基體的附著力強，膜層均勻性好等優點，適合各種金屬、氧化物、半導體薄膜的制備，廣泛應用于光伏、LED、微電子、硬質薄膜等領域。