離子束輔助沉積是指在氣相沉積鍍膜的同時，采用低能離子束進行轟擊，從而形成單質或化合物薄膜的技術，還可通過反射式高能電子衍射儀（RHEED）進行在線結構分析。該方法制備的薄膜具有高精度、高純度、重復性和一致性好的優點，廣泛應用于光學膜、傳感器、光伏、半導體等領域。